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安捷伦Turbo-V 1K-G涡轮分子泵

更新时间:2020-07-21

简要描述:

安捷伦Turbo-V 1K-G涡轮分子泵,不仅是一台泵。该装置是专门为薄膜沉积设备精心设计的分子泵系统。其叶片级数和泵的整体结构均经过优化,可以在高流速的氩气氛围下和温度*的环境中工作。另外,可通过远程机架控制器或泵机一体式控制器来驱动泵。所有这些特点使安捷伦 Turbo-V 1K-G 成为了镀膜工业的较佳真空解决方案。

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涡轮分子泵应用范例

安捷伦涡轮分子泵包括集成泵组和多流路泵,其设计旨在实际应用中达到较佳性能。泵的紧凑型设计满足工业中的严苛空间要求。涡旋分子泵几乎不需要维护,并可避免错误使用。无论您是终端用户还是原始设备制造商,安捷伦均可针对您的应用为您提供帮助和支持,或定制适合您的需求的系统。

典型涡轮泵应用

领域详细说明应用
质谱和分析仪器
  • 针对质谱系统优化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵组的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 对于 GC/MS,提供用于相对低气体载荷环境的 1 个真空室和用于分析无机样品的中等真空接口
  • 对于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系统
  • 对于 ICP-MS,提供多种真空系统,包括用于氩气等重载气的泵和使用氦气的碰撞池
  • 对于 TOF 系统,需要较小尺寸、高通量和高效的散热设备
  • 质谱
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF
科研中的真空应用
  • 非常清洁、可靠和高性价比的 HV 和 UHV
  • 粗真空轴承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高压缩
  • 可以以任意角度安装
  • 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
  • 高能物理
  • 融合技术
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器
工业真空加工
  • 为薄膜沉积应用而专门设计的集成分子泵解决方案
  • 适用于原始设备制造商和终端用户的专业性能
  • 适用于具有预真空锁或大型内联连续系统的单室批量系统和多室系统的泵

薄膜沉积:

  • 玻璃涂层设备(建筑和汽车玻璃,平板显示器)
  • 薄膜太阳能电池生产(光电)
  • 光学数据介质(CD、DVD、磁光光盘)
  • 磁性存储介质
  • 表面处理
  • 光学涂层(眼科、精密光电)
  • 膜或箔上的辊式/卷绕涂覆

设备加工:

  • 生产电视机和显示器显像管
  • 疏散灯(高速公路照明、投影机)
  • X 射线管和电子设备

一般工艺:

  • 真空炉/冶金
纳米技术仪器
  • 分析从有机化合物到半导体晶片等各类物质
  • 全系列的高真空和超高真空泵特别适用于要求严苛的 SEM、TEM 和表面分析系统
  • 低振动涡旋泵适用于最敏感的显微分析
  • 可快速、无油式排空大型样品室内的气体
  • 集成的泵控制器可灵活进行控制,几乎不生成电磁噪音
  • 非常适合为半导体生产创造合适环境
  • 高转速确保能够以高泵速抽空半导体生产中释放的轻质气体(He、H)
  • 符合高速循环应用的严格要求,例如真空装载锁
  • 通过对多个涡旋泵联用一个前级泵,可提高工具的可靠性
  • 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
  • 安装于支架上的控制器或一体式控制器允许将电子设备放置于远处
  • 电子显微镜(SEM、TEM)
  • 聚焦离子束系统 (FIB)
  • 表面分析
  • 半导体制造

安捷伦Turbo-V 1K-G涡轮分子泵技术规格:

抽速:
ISO 160:
ISO 200:

Ar:750 L/s

Ar:1040 L/s

N2:810 L/s

N2:1080 L/s

He:950 L/s/

He:1150 L/s

H2:680 L/s

H2:730 L/s

压缩比:Ar:5 × 108N2:5 × 107He:4 × 104H2 1.5 × 104
极限真空*(使用推荐的前级泵)< 1 × 10-10 mbar   
入口法兰ISO 160F,ISO 200F   
前级管道法兰
ISO 160:
ISO 200:
KF 25 NW
KF 40 NW
   
额定转速45500 rpm   
启动时间< 5 分钟   
推荐的最小前级泵> 20 m3/h (TriScroll 600, DS 602)   
工作位置任意位置   
操作环境温度+5 °C 至 +35 °C   
烘烤温度

 

入口法兰温度 80 ℃(ISO 法兰)

   
振动参数(位移)

在入口法兰处小于 0.01 μm

 

   
冷却要求   
电源
输入电压:100-240 Vac
最大运行功率:
< 输入频率:50-60 Hz
使用氮气和轻质气体(水冷设置)时为 400 W
使用氩气(风冷设置)时为 260 W
最大输入功率:600 VA待机功率:30 至 35 W 
保险丝(Navigator 控制器)1 × 6.3 A   
串行通信(Navigator 套件)RS232 电缆,9 针 D 型外插头和 9 针 D 型插口,以及 Navigator 软件(可选)  
储存温度-20 °C 至 +70 °C   
重量

26.8 kg(59.1 磅)

   

Turbo-V 1K-G 不仅是一台泵。该装置是专门为薄膜沉积设备精心设计的分子泵系统。其叶片级数和泵的整体结构均经过优化,可以在高流速的氩气氛围下和温度*的环境中工作。另外,可通过远程机架控制器或泵机一体式控制器来驱动泵。所有这些特点使安捷伦 Turbo-V 1K-G 成为了镀膜工业的较佳真空解决方案。

安捷伦Turbo-V 1K-G涡轮分子泵特性:

1、为薄膜沉积应用而专门设计的分子泵解决方案

2、极快的抽速和高气体通量

3、耐用型的设计和高效运行的冷却系统,可实现连续运行

4、能够保护轴承的气体吹扫

5、机架式 Navigator 控制器的样品架类型

6、通用电子器件接口和操作简单的控制软件

7、模拟 I/O 信号和 RS232/RS485 接口(为标准Agilent Profibus 接口选项)

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